北崎供應(yīng)EBARA 荏原 TND 濕式廢氣處理器
北崎供應(yīng)EBARA 荏原 TND 濕式廢氣處理器
TND 型是一種燃燒式廢氣處理系統(tǒng)，采用的燃燒方法，實現(xiàn)低 NOx 和低 CO 排放。 通過各種腐蝕和副產(chǎn)品對策，實現(xiàn)了比傳統(tǒng)產(chǎn)品多 3 倍以上的維護間隔，并且采用耗電量少的低運行成本方法，可以以較低的成本使用。 產(chǎn)品陣容包括 TND-Single 型燃燒型 + 凈水機和 TND-Single Plus 型預(yù)清洗 + 燃燒型 + 凈水機。 即使在具有許多副產(chǎn)品的工藝中，也能實現(xiàn)低運行成本和高效加工。
| 型 | 單位 | TND-單 A1-A4/ TND-單 P1~P4 | TND-單加-A1~A4/P1~P4 |
| 加工方法 | 燃燒 + 濕式 | 濕式 + 燃燒式 + 濕式 | |
| *進氣量 | 升/分鐘 | 200 （每個端口） | 200 （每個端口） |
| 400 （每單位） | 400 （每單位） | ||
| 燃料 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | 城市燃氣/丙烷氣選擇 | |
| 大小 | 寬 x 深 x 高 mm | 1,200 x 650 x 1,980 | 1,200 x 650 x 1,980 |
| 可處理氣體示例 |
工藝（倉庫）氣體 SiH4、PH3、GeH4、AsH3、NH3、SiH2Cl2、B2H6、H2、PH3、Si3H8 等。 一般 清洗氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等。 一般 蝕刻氣體 HBr、Cl2、SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6 等。 |
工藝（庫）氣體 WF6、TiCl4、SiH4、PH3、GeH4、NH3、SiH2Cl2、TEOS、B2H6、H2 等 一般 清潔氣體 NF3、ClF3、HF、F2、HCl、COF2 等 一般 蝕 刻氣體 HBr、Cl2PFC 如 SiCl4、BCl3、CO、C5F8、C4F6、CF4、C2F6、C3F8、CHF3、SF6 等。 |
|
| 標準設(shè)備 | 用于除粉的水清潔機制 | 前級粉末收集機構(gòu) | |
| 除粉 vernas 刮刀 | 除粉 vernas 刮刀 | ||
| 選擇 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | 市政水和廢水消耗減少裝置 | |
| 粉體減排風機洗滌器 | 粉體減排風機洗滌器 | ||
首頁| 關(guān)于我們| 聯(lián)系我們| 友情鏈接| 廣告服務(wù)| 會員服務(wù)| 付款方式| 意見反饋| 法律聲明| 服務(wù)條款
在手機上查看
京公網(wǎng)安備 11010802023672號
溫馨提示：為規(guī)避購買風險，建議您在購買產(chǎn)品前務(wù)必確認供應(yīng)商資質(zhì)及產(chǎn)品質(zhì)量。